| Inhaltsverzeichnis | I | |
| Verzeichnis der verwendeten Formelzeichen und Konstanten | i | |
| 1 | Einleitung | 1 |
| 2 | InAlAs/InGaAs/InP-Heterostruktur-Feldeffekttransistoren | 6 |
| 3 | Grundlagen der Elektronenstrahllithographie | 56 |
| 4 | Elektronenstrahlempfindliche Resiste | 71 |
| 5 | Ergebnisse und Diskussion zur Technologie der Elektronenstrahllithographie | 105 |
| 6 | Meßergebnisse und Charakterisierung von Single-Gate HFET | 177 |
| 7 | Meßergebnisse und Charakterisierung von Dual-Gate HFET | 202 |
| 8 | Zusammenfassung | 225 |
| Anhang | 230 | |
| A | Schichtdicken der verwendeten Resiste | 230 |
| B | Resistsysteme | 234 |
| C | Halbleiterfertigungsprozesse | 240 |
| Literaturverzeichnis | 243 | |
| Eigene Veröffentlichungen und Vorträge | 256 | |
| Danksagung | 258 |