Reaktion zwischen flüssigem Silicium und Graphit sowie Siliciumnitrid im Hinblick auf neuartige Verfahren zur Raffination und Kristallisation von Silicium für Solarzellen

Die in dieser Arbeit durchgefuehrten Untersuchungen lassen sich in drei Teilbereiche unterteilen: 1. Reaktionen zwischen fluessigem Silicium und Graphit sowie Glaskohlenstoff (Sigradur G); 2. Reaktionen zwischen fluessigem Silicium und CO-haltigen Gasatmosphaeren; und 3. Reaktionen zwischen fluessigem Silicium und Siliciumnitrid. Bei den Fest/Fluessig-Reaktionen wurden Schichtdicken gemessen und die Strukturen der entsprechenden Reaktionsschichten untersucht. Die Untersuchungen zu den Gas/Fluessig-Reaktionen hatten zum Ziel, die einzelnen ablaufenden Reaktionen moeglichst exakt nachweisen zu koennen.

 

Three types of reactions were investigated: 1. Reactions between liquid silicon and graphite and solid sigradur G. 2. Reactions between liquid silicon and CO_2-containing gas atmospheres; 3. Reactions between liquid silicon and silicon nitride. In the solid/liquid reactions, thicknesses and structures of the reaction films were investigated. In the gas/liquid reactions, particular interest was taken in an accurate description of the reaction course.

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