Naturgemäß ist es nicht möglich, diese Randbedingungen immer zu erfüllen, weswegen verbesserte zweidimensionale Modelle entwickelt wurden. Jedoch werden all diese Modelle meist für den Fall einer thermisch isolierenden Schicht auf einem Substrat angewendet. Für den Fall einer Schicht, welche thermisch besser leitet als das Substrat auf welchem sie sich befindet, bleibt meist nur die Möglichkeit das Substrat zu entfernen, um so die Schicht allein vermessen zu können.

In dieser Arbeit wird eine Methode vorgestellt um für den Fall einer anisotropen Schicht, welche thermisch besser oder gleich leitend ist wie das Substrat, eine 3ω-Messungen durchzuführen. Zu diesem Zweck wird ein 3ω-Messplatz aufgebaut und getestet. Nach der Vermessung verschiedener nanokristalliner Diamantschichten und einiger DLC-Schichten wird anhand einer mikrokristallinen Diamantschicht das neue Verfahren demonstriert, welches auf einer Kopplung zweier 3ω-Messungen über einer Phasenverschiebung beruht. Es kann gezeigt werden, dass mit dieser Methode weitere Messdaten von der Schicht extrahiert werden können, welche mit einer einfachen 3ω-Messung nicht zugänglich wären.