Die physikalische und chemische Trocknung von Beschichtungsstoffen wurde mit einem neuen energieschonenden Verfahren, der photonischen Trocknung, als Alternative zu derzeitigen hochtemperaturbetriebenen Prozessen, die in Umluftöfen durchgeführt werden, entwickelt. Die Trocknung von Beschichtungsstoffen und deren Verfilmung nimmt dabei eine zentrale Rolle bei der Verbesserung von Oberflächeneigenschaften ein, insbesondere durch den Schutz vor Korrosion, Verschleiß und chemischen Einwirkungen. Der in dieser Arbeit entwickelte Prozess der photonischen Trocknung hat das Potential den technologischen Fortschritt in der Materialwissenschaft als Alternative zu den derzeit in der Praxis eingesetzten ineffizienten und energieintensiven Trocknungsmethoden vor-anzutreiben. Diese traditionell herkömmlichen Methoden sind mit erheblichen Energieverlusten verbunden, da lediglich nur etwa ein Prozent der im Ofen erzeugten Energie tatsächlich für das Erwärmen und Aushärten des Beschichtungsstoffes genutzt wird. Die photonische Trocknung ist effizienter, da durch die Bestrahlung mit Licht dieses direkt und selektiv dorthin gelenkt werden kann, wo es benötigt wird. Die photonische Trocknungstechnologie kann daher als vielversprechende Lösung angesehen werden, da die in dieser Arbeit entwickelte Technologie auf der Nutzung von Nahinfrarotstrahlung in Kombination mit maßgeschneiderten Nahinfrarotabsorbern basiert. In dieser Arbeit wird diese Technologie hinsichtlich der Synthese der NIR-Absorber, dem Einsatz verschiedener Nahinfrarot-Lichtquellen und deren Anwendung in der Industrie näher untersucht. Für diese Materialien wurden Syntheseverfahren entwickeln, welche es ermöglichen Materialien in einem größeren Maßstab in technischer Reinheit herzustellen. Insbesondere NIR-Absorber auf der Basis von Benzo[cd,]indolium wurden aufgrund ihrer Trocknungseffizienz hinsichtlich ihrer photochemischen und photophysikalischen Eigenschaften näher analysiert. Dies hat zu einem besseren Verständnis, wie der hohe Wirkungsgrad dieser Absorber in Bezug auf die absorbierte Lichtenergie in Wärme umgewandelt wird, beigetragen. Der Prozess der strahlungslosen Desaktivierung wird dabei als treibender Prozess angesehen. Je nach Beschichtungssystem werden Temperaturen bis zu 220 °C benötigt, um reaktive Spezies für die vernetzende Polymerisation zu generieren oder thermische Reaktionen zu aktivieren. Das erfordert ein grundlegendes Verständnis über den Einfluss der einzelnen Bausteine der Absorberstruktur und die Kompatibilität im Anwendungsmedium. Die anspruchsvolle, optimale Einstellung aller Parameter führt bei der photonischen Trocknung zu einer homogenen, ausgehärteten Oberfläche, die der Trocknung in einem konventionellen Ofen mit unveränderten Qualitätseigenschaften entspricht. Die Reduktion des Energieverbrauchs oder die präzisere Prozesssteuerung sind nur wenige weitere Vorteile, die diese Technologie so attraktiv machen. Die photonische Trocknung, die in dieser Arbeit entwickelt wurde, stellt somit eine zukunftsweisende Technologie dar, die dazu beitragen kann, die energetischen und wirtschaftlichen Herausforderungen der modernen Beschichtungsindustrie zu bewältigen. Das ist ein bedeutender Schritt zu weiteren nachhaltigen und wirtschaftlich effizienteren Produktionsmethoden. Die Funktionsweise des entwickelten Verfahrens wurde an einer Pilotanlage erfolgreich nachgewiesen.